簡要描述:Hellma CaF 2氟化鈣用于紫外的光學材料Hellma Materials CaF 2 多年來一直被用作半導體生產微光刻中的光學關鍵材料。CaF 2 被確立為投影和照明光學器件中準分子激光光學器件的行業標準材料。CaF 2的光學特性可實現各種高級應用。
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Hellma CaF 2氟化鈣用于紫外的光學材料
CaF 2用于紫外/可見光/紅外應用的光學材料
Hellma Materials CaF 2 多年來一直被用作半導體生產微光刻中的光學關鍵材料。CaF 2 被確立為投影和照明光學器件中準分子激光光學器件的行業標準材料。CaF 2的光學特性可實現各種高級應用。
應用領域
由于其好的光學質量以及在紫外、可見光和紅外光譜范圍內出色的透射率
Hellma Materials CaF 2 可用于多種應用:
紅外光學器件
天文儀器光學
天基光學
顯微鏡光學器件
光譜光學
紫外光學
激光窗
準分子激光光學
微光刻光學
氟化鈣單晶由高純度原材料生長而成,是 248 和 193 nm 微光刻技術中照明和投影光學所需的材料。Hellma Materials 的專業知識允許制造直徑高達 440 毫米、厚度超過 100 毫米且最高厚度的 CaF 毛坯。傳輸波長低至 157 nm。
主要質量特性包括:
優異的紫外線透射率
高激光耐久性
低應力雙折射
高折射率均勻性
優點
Hellma Materials 的Lithotec ® CaF 2具有奇特的光學特性:
從深紫外到紅外(130nm 到 8μm)的高寬帶透射率
低折射率(n d = 1.43384)
低光譜色散 (v d = 95.23)
準分子激光光學元件(157nm、193nm、248nm)具有出色的激光耐久性
合格的抗高能粒子和輻射能力
直徑可達 420 毫米
CaF 具有高的激光耐久性,使其成為光刻準分子激光光學器件、光束傳輸以及各種其他應用中所有準分子波長的首要選擇材料。
合成氟化鈣晶體完善了從 VUV 到 IR 的光學材料應用范圍,在 130 nm 到 9 pm 范圍內具有非常好的透射率。
氟化鈣色校正光學系統在天文學、攝影、HDTV 變焦鏡頭中也能實現光學性能的優勢。如在顯微鏡中,進一步的應用是傳感器(尤其是紅外光譜)、光譜儀和醫用激光器。
Hellma Materials 提供具有不同晶體取向 [<111>、<100>、隨機或其他要求] 的 CaF、組件和毛坯,以及不同的表面質量(原始、切割研磨或拋光),具體取決于個人要求。
Hellma CaF 2氟化鈣用于紫外的光學材料